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2028-11-27
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。
有效专利
CN201610967270.9
2016-10-28
C08L79/04 {{ classMap["C08L79/04"] }}
山东省济南市长清区大学路西部新城大学科技园
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 |
2016-10-28
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初审公告日期 |
2018-11-30 |
注册公告期号 |
2018-11-30
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注册公告日期 |
2018-11-30 |
专用权期限 |
2018-11-30 - 2028-11-27
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专利类型 |
发明授权 |
代理组织机构 |
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专利介绍
本发明涉及一种聚吡咯膜及其制备方法和应用,所述聚吡咯膜在波长为320、440、463和540 nm处有吸收峰;所述聚吡咯膜的红外光谱的特征吸收,为1545 cm–1、1466 cm–1、1305 cm–1、1182 cm–1、1092 cm–1、1043 cm–1、915 cm–1、787 cm–1、和678 cm–1。本发明还提供所述聚吡咯膜的制备方法。聚吡咯膜的用途,用于工作电极和超级电容器。本发明所合成的大尺寸、自持聚吡咯薄膜,不仅适合于研究聚吡咯膜的力学、电子学和光学等基本物化性质;而且方便裁剪,适用于组装柔性超级电容器或电池。
法律进度
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