• 专利申请
    2019-01-04
  • 公布公告
    2020-10-09
  • 授权日期
    2020-10-09
  • 终止
    2030-10-07
双频激光外差干涉相位测量大尺寸光学平面的装置及方法
双频激光外差干涉相位测量大尺寸光学平面的装置及方法
* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。 有效专利
CN201910009286.2 2019-01-04 G01J9/02 {{ classMap["G01J9/02"] }}
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北京市石景山区晋元庄路5号
专利分类项目

G01J9/02 : 采用干涉法

专利注册信息
初审公告期号 2019-01-04 初审公告日期 2020-10-09
注册公告期号 2020-10-09 注册公告日期 2020-10-09
专用权期限 2020-10-09 - 2030-10-07 专利类型 发明授权
代理组织机构 北京挺立专利事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明涉及一种双频激光外差干涉相位测量大尺寸光学平面的装置，双频激光器的输出光路上设置有第一扩束系统，第一扩束系统的输出光路上设置有偏振分光棱镜，偏振分光棱镜的反射光方向设置有参考信号获取系统，偏振分光棱镜的透射光方向设置有待测信号获取系统，偏振分光棱镜的反射光方向的相反方向设置有偏振片，偏振片的输出光路上设置有分光镜，分光镜的透射光方向设置有第一光电探测器，分光镜的反射光方向设置有依次设置有待测信号测量系统。本发明还提供一种双频激光外差干涉相位测量大尺寸光学平面的方法。本发明所公开的测量装置和方法精度较高，且能测量较大面积的光学平面。
法律进度

  • 2020-10-09 授权 ...

  • 2019-07-02 实质审查的生效 IPC(主分类): G01J 9/02 专利申请号: 201910009286.2 申请日: 2019.01. ...

  • 2019-06-07 公开 ...

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