• 专利申请
    2020-05-25
  • 公布公告
    2021-06-01
  • 授权日期
    2021-06-01
  • 终止
    2031-05-30
测量矢量随机电磁光场二维空间相干结构分布的方法
测量矢量随机电磁光场二维空间相干结构分布的方法
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN202010449530.X 2020-05-25 G01J9/00 {{ classMap["G01J9/00"] }}
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江苏省苏州市吴中区石湖西路188号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2020-05-25 初审公告日期 2021-06-01
注册公告期号 2021-06-01 注册公告日期 2021-06-01
专用权期限 2021-06-01 - 2031-05-30 专利类型 发明授权
代理组织机构 苏州市中南伟业知识产权代理事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明公开了一种测量矢量随机电磁光场二维空间相干结构分布的方法,包括以下步骤:搭建测试光路;遮挡参考光,光探测器记录光强分布;转动四分之一波片,使其快轴方向与线偏振片的透光轴方向一致;遮挡待测矢量随机光,移除参考光的遮挡,光探测器记录光强分布;移除待测矢量随机光的遮挡,光探测器记录光强分布;转动四分之一波片,使其快轴方向与线偏振片的透光轴方向垂直;遮挡待测矢量随机光,移除参考光的遮挡,光探测器记录光强分布;移除待测矢量随机光的遮挡,光探测器记录光强分布;计算获得待测矢量随机光的振幅和相位。其能够测出矢量随机电磁光场的振幅分布和相位分布,测试速度快。
法律进度
  • 2021-06-01 授权 ...

  • 2020-09-08 实质审查的生效 IPC(主分类): G01J 9/00 专利申请号: 202010449530.X 申请日: 2020.05. ...

  • 2020-08-14 公开 ...

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