• 专利申请
    2020-07-15
  • 公布公告
    2024-01-30
  • 授权日期
    2024-01-30
  • 终止
    2034-01-27
基于高斯过程回归的聚合物分子量分布的预测方法
基于高斯过程回归的聚合物分子量分布的预测方法
* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。 有效专利
CN202010680269.4 2020-07-15 G16C20/30 {{ classMap["G16C20/30"] }}
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浙江省杭州市下城区潮王路18号
专利分类项目

G16C20/30 :

G16C20/20 :

专利注册信息
初审公告期号 2020-07-15 初审公告日期 2024-01-30
注册公告期号 2024-01-30 注册公告日期 2024-01-30
专用权期限 2024-01-30 - 2034-01-27 专利类型 发明授权
代理组织机构 杭州浙科专利事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明公开了基于高斯过程回归的聚合物分子量分布的预测方法，获取聚合反应过程中的所有工艺参数，记录相应的聚合物分子量浓度分布的历史数据并进行提纯处理，然后对所有工艺参数、提纯后的聚合物分子量分布以及其浓度分布均进行归一化处理后，导入到训练模型中，通过高斯过程分布模型对聚合反应过程中所有已知的工艺参数下所对应的聚合物分子量浓度分布的数据进行训练和模拟，进行预测模型的搭建。本发明涉及聚合物分子量分布数据的处理方式和高斯过程回归模型在聚合反应中的应用，通过两者的结合能够进行现有聚合物分子量分布数据的分析和对未知反应条件下的聚合物分子量分布进行很好的预测。
法律进度

  • 2024-01-30 授权 ...

  • 2020-11-17 实质审查的生效 IPC(主分类): G16C 20/30 专利申请号: 202010680269.4 申请日: 2020.07 ...

  • 2020-10-30 公开 ...

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