• 专利申请
    2011-05-11
  • 公布公告
    2011-11-30
  • 授权日期
    2013-01-16
  • 终止
    2024-05-17
一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法
一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法
* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。 失效专利
CN201110121029.1 2011-05-11 G06T7/00 {{ classMap["G06T7/00"] }}
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浙江省杭州市下城区朝晖六区
专利分类项目

G06T7/00 : 图像分析，例如从位像到非位像

专利注册信息
初审公告期号 2011-05-11 初审公告日期 2011-11-30
注册公告期号 2013-01-16 注册公告日期 2013-01-16
专用权期限 2011-11-30 - 2024-05-17 专利类型 发明授权
代理组织机构 杭州天正专利事务所有限公司 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
一种基于单元分解光流场的喷墨印花纹理图像配准方法，包括以下步骤：①输入参考图像和变形图像，设置迭代实施参数；②对配准位移向量的系数矩阵进行不完全Cholesky分解；③置基函数为线性基函数，根据迭代误差值结果，采用预优共轭梯度算法求解单元分解系数列向量；④计算全局误差估测值，进行尺度空间调整，得到粗尺度空间；⑤置基函数为二阶基函数，在粗尺度空间上，根据局部误差估测结果，求解单元分解系数列向量，得到细尺度空间；⑥在细尺度空间上，将单元分解系数列向量堆叠展开，得到配准位移向量，完成配准。本发明能有效提高特征纹理曲线配准表征能力、提高在噪声环境下的配准精度和速度，适用于喷墨印花纹理图像的配准处理。
法律进度

  • 2024-05-17 未缴年费专利权终止 IPC(主分类): G06T 7/00 专利号: ZL 201110121029.1 申请日: 2011.05 ...

  • 2013-01-16 授权 授权 ...

  • 2012-01-11 实质审查的生效 IPC(主分类): G06T 7/00 专利申请号: 201110121029.1 申请日: 2011.0 ...

  • 2011-11-30 公布 公布 ...

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